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泛半导体
iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统
iTomic® Lite轻型系列原子层沉积系统采用原创设计开发的自动化平台与模块化ALD反应腔相结合，以国产化零部件为主导，可以按需配置PEALD或Thermal ALD等工艺需求。Lite ALD系列设备具有强大的兼容性，其硬件配置在保持量产机型强大功能的前提下，可满足各类晶圆尺寸（6、8英寸）量产工艺需求，同时也可满足客户高端研发和新工艺试量产需求。Lite ALD系列可广泛应用于MEMS、光电器件等泛半导体器件领域。
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产品特点
灵活兼容Thermal ALD和PEALD工艺应用
1
自由配置半自动或全自动系统
2
薄膜材料：Al₂O₃、SiO₂、TiO₂、ZnO、氮化物等
3
满足6、8英寸晶圆量产工艺需求
4
满足高端研发客户需求及新工艺的开发和量产
5